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    光學膜設備
    1、涂布基材:PET2、運行基材厚度:25-135 μm3、涂布寬度:1100mm4、涂布方式:兩輥間隙5、干燥方式:UV固化6、機械運行速度:30m/min7、收放卷直徑:放卷-600mm、收卷-800mm8、收放卷張力:放卷-3-30kgf/全幅寬,…
    1)適合體系:水性溶劑,油性溶劑2)運行基材寬度:25-250μm3)涂布形式:微凹涂布,狹縫涂布4)張力范圍:0-50kg5)機械運行速度:≤20m/min6)涂布寬度:300-1600mm7)涂布厚度:15-250μm8)烘箱最高溫度:180℃…
    1)運行基材厚度:6-20μm2)輥面設計寬度:1100mm3)涂布方式:微凹版,連續雙面涂布4)保證涂布寬度:150-1000mm5)機械運行速度:≤30m/min6)單面涂布厚度:1-10μm7)烘箱:高潔凈度全懸浮式8)烘道以外導輥:…
    1)適合體系:水性溶劑,油性溶劑2)運行基材厚度:10-120μm3)涂布方式:微凹版,逗號刮刀,狹縫涂布4)張力范圍:0-50kg5)機械運行速度:≤50m/min6)涂布寬度:1100-1600mm7)涂布厚度:50-120μm8)烘箱最高溫…

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